【半導體微影製程光學】光刻機波長窄化光路設計課程
半導體製程中要將晶片上的電路更縮小化，就需要更短波長的光源，或是使用浸潤式...
半導體製程中要將晶片上的電路更縮小化，就需要更短波長的光源，或是使用浸潤式光學微影製程等方式，以便在光刻製程中，用雷射光刻出間距更小的電路圖。光線的波長決定了焦點的尺寸，也就決定了電路的線距。光刻機微影技術中的光源照射光罩前，需要波長窄化到1-2 pm等級。否則，在光阻上的聚焦會有500nm以上的離焦。對只有100nm厚度的光阻而言，是不允許的焦點誤差。本課程將從光學元件(Fabry–Pérot干涉儀)稜鏡、光柵的原理說起，再導入現有專利前案的光路說明光刻機波長窄化應用實例。
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【半導體微影製程光學】光刻機波長窄化光路設計課程
上課地址：工研院光復院區1館(詳細地點請以上課通知為準) 時數：6 起迄日期：2021-04-23~2021-04-23 聯絡資訊：王丕華/03-5732774 報名截止日：2021-04-16 課程類別：人才培訓(課程) 活動代碼：2321010049 |
課程介紹 半導體製程中要將晶片上的電路更縮小化，就需要更短波長的光源，或是使用浸潤式光學微影製程等方式，以便在光刻製程中，用雷射光刻出間距更小的電路圖。光線的波長決定了焦點的尺寸，也就決定了電路的線距。光刻機微影技術中的光源照射光罩前，需要波長窄化到1-2 pm等級。否則，在光阻上的聚焦會有500nm以上的離焦。對只有100nm厚度的光阻而言，是不允許的焦點誤差。本課程將從光學元件(Fabry–Pérot干涉儀)稜鏡、光柵的原理說起，再導入現有專利前案的光路說明光刻機波長窄化應用實例。
課程目標瞭解光刻機波長窄化光路及應用實例。課程對象半導體產業之技術研發人員、專案管理人員或研發主管。課程大綱●什麼是時間同調？同調長度？●什麼是空間同調？Sigma參數？
●爲什麼光刻機波長要窄化到pm等級？
●什麼是E95?
●光刻機波長窄化機制有幾種？
●Etalon的波長窄化原理。
●Prism的波長窄化原理。
●Grating的波長窄化原理。
●專利資料庫中波長bandwidth narrowing前案解析。
講師簡介林世穆 講師
現職：
瑞光科技顧問有限公司 資深顧問
學歷：
英國雷丁大學 物理系應用光學組博士
英國倫敦大學 帝國理工學院物理系應用光學組碩士
經歷：
國立台北科技大學光電工程系專任副教授
專長：
光學鏡頭設計、光學系統設計、ZEMAX教學
課程資訊主辦單位：工研院產業學院
舉辦日期：110年4月23日（五），上午9:00∼12:00、下午13:00∼16:00，共6小時
舉辦地點：工研院光復院區1館(詳細地點請以上課通知為準)
課程費用：(含稅、午餐、講義)
■ 每人 5,200元
■ 110/4/9(含)前報名享優惠價，每人 4,700元
■ 同公司2人(含)團報優惠價，每人 4,700元
■ 工研人享優惠價 4,700元
報名方式1.線上報名 : 點選課程頁面上方之「線上報名」按鈕，填寫報名資訊即可。亦可直接點選報名網址: https://wlsms.itri.org.tw/ClientSignUp/Index.aspx?ActGUID=17FB0C44B02.傳真報名 : 請將報名表傳真至(03)5750690 黃小姐(傳真後請來電確認，以保障報名權益)。 3.電郵報名 : 洽黃小姐(03-5732034；E-mail：itri535579@itri.org.tw )、王先生(03-5732774；E-mail：joseph_wang@itri.org.tw )。 註：報名後待確定開課時，課務人員會再通知學員進行繳款及提供課程詳細地點等課務資訊。 注意事項■ 為確保您的上課權益，報名後若未收到任何回覆，敬請來電洽詢方完成報名。
■ 若您不克前來，請於開課三日前告知，以利行政作業進行。
■ 若原報名者因故不克參加，但欲更換他人參加，敬請於開課前二日通知。
■ 學員於開訓前退訓者，將依其申請退還所繳上課費用90％，另於培訓期間若因個人因素無法繼續參與課程，將依上課未逾總時數1/3，退還所繳上課費用之50％，上課逾總時數1/3，則不退費。
■ 為尊重講師之智慧財產權，恕無法提供課程講義電子檔。
附件 |
簡介
產業學院緣起
依據行政院「挑戰2008：國家發展重點計畫」下之「國際創新研發基地」與「產業高值化」兩計畫，首重產業科技人才的效能。
•911216經科字第09103373120號函：經濟部將本院籌設工研院產業學院之工作，列為因應產業結構轉型，提 ... more
