奈米微影技術
本課程以次微米微影製程為序幕,再循序漸進介紹奈米微影製程的流程與量.......
提供機構:
適合對象:
課程代碼2321120067 奈米微影技術 課程型態/實體 上課地址/光復院區 時數/12小時 起迄日期/2022/03/04~2022/03/11 聯絡資訊/黃文彥 03-5732901 報名截止日/2022/03/03 |
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課程介紹微影製程在半導體製程中,佔了約4成或更高些的量產流程。本課程以次微米微影製程為序幕,再循序漸進介紹奈米微影製程的流程與量產考量、極紫外光(EUV)機台的設計與應用。 在微影製程中,主要的三大製程流程:光阻塗佈、對準與曝光、光阻顯影。其每個環節都有其困難度,尤其在量產時,如何保有晶圓產品上的圖案,其均勻性與穩定性,皆在可控制的範圍內,著實不易,且隨著每個先進製程的微縮,還需保有此等良好特質,更是一大挑戰。 在半導體製程進入奈米等級,考量的問題比次微米製程,所需考量的問題更多項而且更複雜,例如,微影光源的採用與設計、配合不同光源波長所需的光阻調配、量產自動化考量、光罩的設計與材料選取、軟體模擬的微影最佳化、成本管控…等皆是計畫成功與否的重要考量。
課程特色/目標
課程目標學員能夠瞭解微影相關知識及應用。
課程對象半導體、光電、機械等產業研發、製程、設備工程師
課程大綱
講師簡介王 教授
開課資訊
課程費用
1. 免費加入會員,可享課程優惠。 2. 團報優惠 (1) 團報優惠可與早鳥優惠一併使用
(2) 團報學員,每一位學員必須使用個別帳號完成線上報名,並於備註欄註記「與xx一起團報」。
報名方式
注意事項
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